InFocus λ - 全新顯微光譜技術

一種用于觀察納米顆粒的暗場顯微鏡，加上快速、高清晰度的暗場光譜成像。等離子體增強散射光和熒光可以以高光譜分辨率進行分析。

亮點

在落射照明暗場顯微鏡下可以清晰地觀察到納米粒子的分布

具有線檢測光學器件和高像素 CCD 的超快速、高清晰度暗場光譜成像。

分散的納米粒子可以被檢測、計數(shù)，并與光譜信息一起列出。

概覽

InFocus λ DS 暗場光譜成像顯微鏡是一款開創(chuàng)性的儀器，融合了暗場顯微鏡和高光譜成像能力。它允許觀察金屬納米粒子的分布以及它們的散射和熒光的光譜分析，在等離子體生物傳感器探索等領域的研究和開發(fā)中具有極大價值。

圖 1 所示為暗場顯微鏡的光學系統(tǒng)。利用環(huán)形光闌和環(huán)形反射鏡，它用環(huán)形白色 LED 光對角照射樣品。它消除了觀察中的背景光，并能夠在平坦的基板上觀察納米粒子和納米結構。

圖 1：落射照明暗場顯微鏡

具有線檢測的超快速暗場光譜成像

InFocus λ DS 的主要特點是能夠進行超快速和高清晰度的暗場光譜成像。例如，在用暗場顯微鏡觀察金屬納米粒子的分布時，可以選擇感興趣的區(qū)域并進行光譜成像，以評估諸如表面等離子體增強散射光和表面等離子體激發(fā)增強熒光等光學響應作為光譜。

線檢測暗場光譜成像的機制如圖 2 所示。光譜儀的狹縫方向用作空間信息，對特定的測量區(qū)域（線檢測）進行單個 X 軸光譜測量。具有 256×1024 像素的電制冷 CCD 允許在空間和光譜方向上獲取大量數(shù)據(jù)。

圖 2：線檢測機制。測量區(qū)域內 X 軸上的 256 個點一次性進行光譜測量。

圖 3：點檢測和線檢測測量時間的比較。

直觀的軟件和粒子分析功能

在暗場顯微鏡圖像中點擊感興趣的區(qū)域，即可查看該位置的光譜信息。可以選擇四種 ROI（感興趣區(qū)域）選擇模式——點、線、正方形和橢圓形——以顯示光譜，不包括額外的區(qū)域，并盡可能避免噪聲成分。

您還可以為光譜中的任何波段特定一種偽彩色，并可視化其強度分布。除了顯示所選波段的平均強度分布外，還有各種其他模式可用，例如使用 Cobell 方法顯示峰面積強度。

它還具有“粒子分析功能"，通過應用閾值檢測納米粒子，對粒子的數(shù)量進行計數(shù)和編號，并自動提取每個粒子的平均光譜數(shù)據(jù)，并將這些信息顯示在列表中。

此外，該系統(tǒng)足夠靈活，可以開發(fā)其他專門的功能以適應用戶的數(shù)據(jù)分析目標。

應用

在利用金屬納米粒子的等離子體生物傳感器的研發(fā)中，用于納米結構觀察的暗場顯微鏡和用于光學響應研究的光譜學是不可缺失的。在此，我們利用暗場光譜成像顯微鏡，給出一個針對銀納米粒子的表面等離子體增強散射和熒光的暗場光譜分析示例。