詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE低級波片
Eksma FEMTOLINE低級波片
與多級板相比,低級板對溫度的敏感性和溫度依賴性較小。這些板適用于高功率應用。
Ø厚度0.15-0.35
Ø比多級薄
產品型號
延遲λ/ 2
型號 | 波長 | 延遲 | 直徑 | 安裝 | 通光孔徑 |
461-4208 | 1030 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4208D12 | 1030 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4215 | 800 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4215D12 | 800 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4220 | 780 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4220D12 | 780 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4232 | 515 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4232D12 | 515 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4235 | 400 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4241 | 343 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
延遲λ/ 4
型號 | 波長 | 延遲 | 直徑 | 安裝 | 通光孔徑 |
461-4408 | 1030 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4408D12 | 1030 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4415 | 800 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4415D12 | 800 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4420 | 780 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4432 | 515 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4432D12 | 515 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4435 | 400 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4441 | 343 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
材料 | 單晶石英 |
光軸 | 垂直于緩速器圓周上的刻面 |
通光孔徑 | Ø17 |
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm |
環(huán)安裝外徑 | 25.4mm+ 0.0 / -0.2mm |
表面質量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
平行性 | <10弧秒 |
增透膜 | R <0.5% |
激光損傷閾值 | 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。
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